Bonding structure and hydrogen content in silicon nitride thin films deposited by the electron cyclotron resonance plasma method

  1. Martínez, F.L.
  2. Ruiz-Merino, R.
  3. Del Prado, A.
  4. San Andrés, E.
  5. Mártil, I.
  6. González-Díaz, G.
  7. Jeynes, C.
  8. Barradas, N.P.
  9. Wang, L.
  10. Reehal, H.S.
Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Any de publicació: 2004

Volum: 459

Número: 1-2

Pàgines: 203-207

Tipus: Aportació congrés

DOI: 10.1016/J.TSF.2003.12.084 GOOGLE SCHOLAR

Objectius de Desenvolupament Sostenible

Font de les dades: Scopus