Influence of rapid thermal annealing processes on the properties of SiNx:H films deposited by the electron cyclotron resonance method
- Martínez, F.L.
- Mártil, I.
- González-Díaz, G.
- Selle, B.
- Sieber, I.
ISSN: 0022-3093
Datum der Publikation: 1998
Ausgabe: 227-230
Nummer: PART 1
Seiten: 523-527
Art: Artikel