Microstructural modifications induced by rapid thermal annealing in plasma deposited SiOxNyHz films

  1. Del Prado, A.
  2. San Andrés, E.
  3. Mártil, I.
  4. González-Díaz, G.
  5. Bravo, D.
  6. López, F.J.
  7. Fernández, M.
  8. Martínez, F.L.
Aldizkaria:
Journal of Applied Physics

ISSN: 0021-8979

Argitalpen urtea: 2003

Alea: 94

Zenbakia: 2

Orrialdeak: 1019-1029

Mota: Artikulua

DOI: 10.1063/1.1586979 GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus