Rapid thermal annealing effects on the electrical behavior of plasma oxidized silicon/silicon nitride stacks gate insulators
- San Andrés, E.
- Del Prado, A.
- Mártil, I.
- González-Díaz, G.
- Martínez, F.L.
ISSN: 1071-1023
Año de publicación: 2003
Volumen: 21
Número: 4
Páginas: 1306-1313
Tipo: Aportación congreso