Influence of rapid thermal annealing processes on the properties of SiNx:H films deposited by the electron cyclotron resonance method

  1. Martínez, F.L.
  2. Mártil, I.
  3. González-Díaz, G.
  4. Selle, B.
  5. Sieber, I.
Revista:
Journal of Non-Crystalline Solids

ISSN: 0022-3093

Año de publicación: 1998

Volumen: 227-230

Número: PART 1

Páginas: 523-527

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/S0022-3093(98)00092-1 GOOGLE SCHOLAR

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