Optical properties and structure of HfO2 thin films grown by high pressure reactive sputtering

  1. Martínez, F.L.
  2. Toledano-Luque, M.
  3. Gandía, J.J.
  4. Cárabe, J.
  5. Bohne, W.
  6. Röhrich, J.
  7. Strub, E.
  8. Mártil, I.
Revista:
Journal of Physics D: Applied Physics

ISSN: 0022-3727 1361-6463

Ano de publicación: 2007

Volume: 40

Número: 17

Páxinas: 5256-5265

Tipo: Artigo

DOI: 10.1088/0022-3727/40/17/037 GOOGLE SCHOLAR