Fabricación de fotoelectrodos transparentes de SnO2 y caracterizaciones estructural y eléctrica
- José María López García
- Salvador Ángel Gómez Lopera 1
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Universidad Politécnica de Cartagena
info
ISSN: 2386-3676
Argitalpen urtea: 2016
Alea: 9
Orrialdeak: 176-179
Mota: Artikulua
Beste argitalpen batzuk: Anuario de Jóvenes Investigadores
Laburpena
Se han fabricado fotoelectrodos transparentes de dióxido de estaño dopado con flúor (SnO 2 :F) sobre sustratos de vidrio de 18.75 cm 2 de superficie y 1.2 mm de espesor median te el método de pirolisis de espray. Se crecieron películas de aproximadamente 500 nm de espesor para distintos valores de [F]/[Sn] (0%, 10%, 15%, 16%, 19%, 20%). Las capas conductoras tienen una eleva da cristalinidad que coincide con el patrón para el dióxido de estaño (estructura tetragonal rutilo). La resis tencia superficial y la resistividad son mínimas para la muestra dopada al 16%, con valores respectivos 3.05±0.12 Ω cm 2 y (12±6) 10 5 Ω m.