Physical properties of high pressure reactively sputtered hafnium oxide

  1. Toledano-Luque, M.
  2. Martínez, F.L.
  3. San Andrés, E.
  4. del Prado, A.
  5. Mártil, I.
  6. González-Díaz, G.
  7. Bohne, W.
  8. Röhrich, J.
  9. Strub, E.
Revista:
Vacuum

ISSN: 0042-207X

Ano de publicación: 2008

Volume: 82

Número: 12

Páxinas: 1391-1394

Tipo: Artigo

DOI: 10.1016/J.VACUUM.2008.03.083 GOOGLE SCHOLAR

Obxectivos de Desenvolvemento Sustentable

Fonte de datos: Scopus