Rapid thermal annealing effects on plasma deposited SiOx:H films

  1. San Andrés, E.
  2. Del Prado, A.
  3. Mártil, I.
  4. González Díaz, G.
  5. Martinez, F.L.
  6. Bravo, D.
  7. López, F.J.
Revista:
Vacuum

ISSN: 0042-207X

Any de publicació: 2002

Volum: 67

Número: 3-4

Pàgines: 531-536

Tipus: Aportació congrés

DOI: 10.1016/S0042-207X(02)00244-0 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus