Rapid thermal annealing effects on plasma deposited SiOx:H films

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Revue:
Vacuum

ISSN: 0042-207X

Année de publication: 2002

Volumen: 67

Número: 3-4

Pages: 531-536

Type: Communication dans un congrès

DOI: 10.1016/S0042-207X(02)00244-0 GOOGLE SCHOLAR
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