Rapid thermal annealing effects on plasma deposited SiOx:H films

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Zeitschrift:
Vacuum

ISSN: 0042-207X

Datum der Publikation: 2002

Ausgabe: 67

Nummer: 3-4

Seiten: 531-536

Art: Konferenz-Beitrag

DOI: 10.1016/S0042-207X(02)00244-0 GOOGLE SCHOLAR
Datenquelle: Scopus