Optical absorption in amorphous hydrogenated silicon nitride thin films deposited by the electron cyclotron resonance plasma method and subjected to rapid thermal annealing

  1. Martínez, F.L.
  2. Mártil, I.
  3. González-Díaz, G.
  4. Bernal-Oliva, A.M.
  5. González-Leal, J.M.
  6. Márquez, E.
Zeitschrift:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Datum der Publikation: 1999

Ausgabe: 343-344

Nummer: 1-2

Seiten: 433-436

Art: Artikel

DOI: 10.1016/S0040-6090(98)01669-1 GOOGLE SCHOLAR