Electrical properties of electron cyclotron resonance plasma-deposited silicon dioxide: Effect of the oxygen to silane flow ratio

  1. Hernandez, M.J.
  2. Garrido, J.
  3. Martinez, J.
  4. Piqueras, J.
Zeitschrift:
Semiconductor Science and Technology

ISSN: 0268-1242

Datum der Publikation: 1996

Ausgabe: 11

Nummer: 3

Seiten: 422-426

Art: Artikel

DOI: 10.1088/0268-1242/11/3/023 GOOGLE SCHOLAR

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