Rapid thermal annealing behavior of amorphous SiC layers deposited by electron cyclotron resonance plasma

  1. Gomez, F.J.
  2. Garrido, J.
  3. Martinez, J.
  4. Piqueras, J.
Zeitschrift:
Journal of the Electrochemical Society

ISSN: 0013-4651

Datum der Publikation: 1996

Ausgabe: 143

Nummer: 1

Seiten: 271-277

Art: Artikel

DOI: 10.1149/1.1836421 GOOGLE SCHOLAR
Datenquelle: Scopus