Rapid thermal annealing behavior of amorphous SiC layers deposited by electron cyclotron resonance plasma

  1. Gomez, F.J.
  2. Garrido, J.
  3. Martinez, J.
  4. Piqueras, J.
Aldizkaria:
Journal of the Electrochemical Society

ISSN: 0013-4651

Argitalpen urtea: 1996

Alea: 143

Zenbakia: 1

Orrialdeak: 271-277

Mota: Artikulua

DOI: 10.1149/1.1836421 GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus