Regrowth-process study of amorphous BF2+ ion-implanted silicon layers through spectroscopic ellipsometry
- Holgado, S.
- Martinez, J.
- Garrido, J.
- Piqueras, J.
ISSN: 0947-8396, 1432-0630
Datum der Publikation: 1995
Ausgabe: 60
Nummer: 3
Seiten: 325-332
Art: Artikel