Regrowth-process study of amorphous BF2+ ion-implanted silicon layers through spectroscopic ellipsometry

  1. Holgado, S.
  2. Martinez, J.
  3. Garrido, J.
  4. Piqueras, J.
Aldizkaria:
Applied Physics A Materials Science & Processing

ISSN: 0947-8396,  1432-0630

Argitalpen urtea: 1995

Alea: 60

Zenbakia: 3

Orrialdeak: 325-332

Mota: Artikulua

DOI: 10.1007/BF01538413 GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus