Rapid solid phase crystallization of nanocrystalline silicon deposited by electron cyclotron plasma chemical vapor deposition

  1. Holgado, S.
  2. Martínez, J.
  3. Garrido, J.
  4. Morant, C.
  5. Piqueras, J.
Revista:
Applied Physics Letters

ISSN: 0003-6951

Any de publicació: 1996

Volum: 69

Número: 13

Pàgines: 1873-1875

Tipus: Article

DOI: 10.1063/1.117462 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus