Rapid solid phase crystallization of nanocrystalline silicon deposited by electron cyclotron plasma chemical vapor deposition

  1. Holgado, S.
  2. Martínez, J.
  3. Garrido, J.
  4. Morant, C.
  5. Piqueras, J.
Zeitschrift:
Applied Physics Letters

ISSN: 0003-6951

Datum der Publikation: 1996

Ausgabe: 69

Nummer: 13

Seiten: 1873-1875

Art: Artikel

DOI: 10.1063/1.117462 GOOGLE SCHOLAR
Datenquelle: Scopus