Rapid thermal annealing behavior of amorphous SiC layers deposited by electron cyclotron resonance plasma

  1. Gomez, F.J.
  2. Garrido, J.
  3. Martinez, J.
  4. Piqueras, J.
Revista:
Journal of the Electrochemical Society

ISSN: 0013-4651

Año de publicación: 1996

Volumen: 143

Número: 1

Páginas: 271-277

Tipo: Artículo

DOI: 10.1149/1.1836421 GOOGLE SCHOLAR
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