Physical properties of plasma deposited SiOx thin films

  1. San Andrés, E.
  2. Del Prado, A.
  3. Mártil, I.
  4. González, G.
  5. Martínez, F.L.
  6. Bravo, D.
  7. López, F.J.
  8. Fernández, M.
Revista:
Vacuum

ISSN: 0042-207X

Any de publicació: 2002

Volum: 67

Número: 3-4

Pàgines: 525-529

Tipus: Aportació congrés

DOI: 10.1016/S0042-207X(02)00243-9 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus