Physical properties of plasma deposited SiOx thin films

  1. San Andrés, E.
  2. Del Prado, A.
  3. Mártil, I.
  4. González, G.
  5. Martínez, F.L.
  6. Bravo, D.
  7. López, F.J.
  8. Fernández, M.
Revista:
Vacuum

ISSN: 0042-207X

Ano de publicación: 2002

Volume: 67

Número: 3-4

Páxinas: 525-529

Tipo: Achega congreso

DOI: 10.1016/S0042-207X(02)00243-9 GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus