Physical properties of plasma deposited SiOx thin films

  1. San Andrés, E.
  2. Del Prado, A.
  3. Mártil, I.
  4. González, G.
  5. Martínez, F.L.
  6. Bravo, D.
  7. López, F.J.
  8. Fernández, M.
Zeitschrift:
Vacuum

ISSN: 0042-207X

Datum der Publikation: 2002

Ausgabe: 67

Nummer: 3-4

Seiten: 525-529

Art: Konferenz-Beitrag

DOI: 10.1016/S0042-207X(02)00243-9 GOOGLE SCHOLAR
Datenquelle: Scopus