Kinetic and electrical characterization of thin silicon oxide films obtained by electron cyclotron resonance plasma

  1. Hernández, M.J.
  2. Cervera, M.
  3. Garrido, J.
  4. Martínez, J.
  5. Piqueras, J.
Revista:
Journal of Materials Science: Materials in Electronics

ISSN: 0957-4522

Any de publicació: 1999

Volum: 10

Número: 5

Pàgines: 393-398

Tipus: Article

DOI: 10.1023/A:1008985125423 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus