Kinetic and electrical characterization of thin silicon oxide films obtained by electron cyclotron resonance plasma

  1. Hernández, M.J.
  2. Cervera, M.
  3. Garrido, J.
  4. Martínez, J.
  5. Piqueras, J.
Zeitschrift:
Journal of Materials Science: Materials in Electronics

ISSN: 0957-4522

Datum der Publikation: 1999

Ausgabe: 10

Nummer: 5

Seiten: 393-398

Art: Artikel

DOI: 10.1023/A:1008985125423 GOOGLE SCHOLAR
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