Passivation, structural modification, and etching of amorphous silicon in hydrogen plasmas

  1. McQuaid, S.A.
  2. Holgado, S.
  3. Garrido, J.
  4. Martínez, J.
  5. Piqueras, J.
  6. Newman, R.C.
  7. Tucker, J.H.
Aldizkaria:
Journal of Applied Physics

ISSN: 0021-8979

Argitalpen urtea: 1997

Alea: 81

Zenbakia: 11

Orrialdeak: 7612-7618

Mota: Artikulua

DOI: 10.1063/1.365337 GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus