Passivation, structural modification, and etching of amorphous silicon in hydrogen plasmas

  1. McQuaid, S.A.
  2. Holgado, S.
  3. Garrido, J.
  4. Martínez, J.
  5. Piqueras, J.
  6. Newman, R.C.
  7. Tucker, J.H.
Revista:
Journal of Applied Physics

ISSN: 0021-8979

Ano de publicación: 1997

Volume: 81

Número: 11

Páxinas: 7612-7618

Tipo: Artigo

DOI: 10.1063/1.365337 GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus