Kinetic and electrical characterization of thin silicon oxide films obtained by electron cyclotron resonance plasma

  1. Hernández, M.J.
  2. Cervera, M.
  3. Garrido, J.
  4. Martínez, J.
  5. Piqueras, J.
Revista:
Journal of Materials Science: Materials in Electronics

ISSN: 0957-4522

Año de publicación: 1999

Volumen: 10

Número: 5

Páginas: 393-398

Tipo: Artículo

DOI: 10.1023/A:1008985125423 GOOGLE SCHOLAR
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