Temperature evolution during scanning electron beam processing of silicon

  1. Cervera, M.
  2. Martínez, J.
  3. Garrido, J.
  4. Piqueras, J.
Revista:
Applied Physics A: Materials Science and Processing

ISSN: 0947-8396

Any de publicació: 1996

Volum: 62

Número: 5

Pàgines: 451-457

Tipus: Article

DOI: 10.1007/BF01567116 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus