Defect levels in monocrystalline and polycrystalline silicon MOS devices: A comparison

  1. Garcia, B.J.
  2. Martinez, J.
  3. Piqueras, J.
Zeitschrift:
Journal of Physics D: Applied Physics

ISSN: 0022-3727

Datum der Publikation: 1985

Ausgabe: 18

Nummer: 4

Seiten: 661-670

Art: Artikel

DOI: 10.1088/0022-3727/18/4/010 GOOGLE SCHOLAR